應(yīng)用指南
半導(dǎo)體
在半導(dǎo)體制造的薄膜沉積、光刻、刻蝕、離子注入、封裝等工藝中，需要高真空或超高真空環(huán)境來(lái)確保工藝的精確性和產(chǎn)品質(zhì)量。例如在真空鍍膜中，思科渦旋真空泵可提供穩(wěn)定的真空環(huán)境，使薄膜均勻沉積在半導(dǎo)體晶圓表面；在芯片封裝過(guò)程中，能抽取腔體形成真空，防止芯片氧化和雜質(zhì)進(jìn)入。同時(shí)，在芯片封裝或半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，需要對(duì)設(shè)備進(jìn)行真空處理，以去除內(nèi)部氣體，確保產(chǎn)品性能和可靠性。渦旋真空泵能夠提供高精度的真空環(huán)境，是半導(dǎo)體行業(yè)的重要設(shè)備。
